研究級(jí)金相顯微鏡 NM900-ZZM
NM900專為材料科學(xué)探究設(shè)計(jì)，能夠滿足各種金屬材料、非金屬材料、地質(zhì)材料表面鏡檢、篩選及科研需求。機(jī)械結(jié)構(gòu)穩(wěn)定、緊湊，人體工學(xué)設(shè)計(jì)，布局合理，使用舒適，能在自然的姿勢(shì)下進(jìn)行顯微鏡操作。采用經(jīng)過(guò)多年研究和不斷改良的NIS無(wú)限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng)，具有工作距離長(zhǎng)，色彩還原度高，成像等的光學(xué)品質(zhì)，成像可靠，提供高對(duì)比，清晰明亮的圖像。NM910顯微鏡采用模塊化設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)明場(chǎng)、暗場(chǎng)、微分干涉、熒光、偏光等觀測(cè)方法。是半導(dǎo)體器件、FPD、電子器件、材料、精密模具制造的質(zhì)控和研究的理想工具。
成像、操作舒適的科研級(jí)手動(dòng)金相顯微鏡
NM900專為材料科學(xué)探究設(shè)計(jì)，能夠滿足各種金屬材料、非金屬材料、地質(zhì)材料表面鏡檢、篩選及科研需求。機(jī)械結(jié)構(gòu)穩(wěn)定、緊湊，人體工學(xué)設(shè)計(jì)，布局合理，使用舒適，能在自然的姿勢(shì)下進(jìn)行顯微鏡操作。采用經(jīng)過(guò)多年研究和不斷改良的NIS無(wú)限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng)，具有工作距離長(zhǎng)，色彩還原度高，成像等的光學(xué)品質(zhì)，成像可靠，提供高對(duì)比，清晰明亮的圖像。NM900顯微鏡采用模塊化設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)明場(chǎng)、暗場(chǎng)、微分干涉、熒光、偏光等觀測(cè)方法。是半導(dǎo)體器件、FPD、電子器件、材料、精密模具制造的質(zhì)控和研究的理想工具。
顯微成像效果
NM900采用的NIS無(wú)限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng)。視場(chǎng)均勻，明亮，色彩還原度高。適合觀察半導(dǎo)體等工業(yè)樣本。
大視場(chǎng)范圍目鏡
NM900采用視場(chǎng)范圍25mm的大視場(chǎng)目鏡，視野更大，觀察內(nèi)容更全面，樣本觀察更快速。對(duì)于需要全景視圖的樣本，擁有大視場(chǎng)范圍的顯微鏡是更為正確的選擇。
柯勒照明
完美的顯微照明系統(tǒng)--柯勒照明，提供明亮均勻的視場(chǎng)。配合無(wú)限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng)NIS45和高數(shù)值孔徑和高工作距離的物鏡，給您提供完美的顯微成像。
NIS45系列物鏡
通過(guò)使用精心挑選的高透玻璃和涂層技術(shù)，確保了色彩的還原。同時(shí)對(duì)于各種使用需要，有多種物鏡可供選擇，包括高分辨率、偏振光和超長(zhǎng)工作距離物鏡。
人體工學(xué)設(shè)計(jì)，舒適的操作體驗(yàn)
NM900提供的光學(xué)性能與舒適的操作體驗(yàn)，是廣大科研工作者值得信賴的科研伙伴。采用科研級(jí)顯微鏡主流的光學(xué)系統(tǒng)——無(wú)限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng)，使多種觀察方法的實(shí)現(xiàn)成為可能。而且完美的柯勒照明為顯微鏡提供明亮而均勻的視場(chǎng)。在此基礎(chǔ)上，Nexcope不斷優(yōu)化客戶產(chǎn)品使用體驗(yàn)，符合人體工學(xué)設(shè)計(jì)，使觀察與操作都可以保持舒適的姿勢(shì)。.
人走燈滅
操作者離開超過(guò)30分鐘后，顯微鏡會(huì)自動(dòng)關(guān)閉透射光源。節(jié)能開關(guān)即可節(jié)約能源，又保護(hù)了光源，增加光源使用壽命。
可變傾角三目觀察頭
可調(diào)節(jié)傾斜角度的觀察頭，可以在更舒適的姿勢(shì)下進(jìn)行操作。限度的減少長(zhǎng)時(shí)間工作帶來(lái)的肌肉緊張與不適。
光強(qiáng)管理功能（選配）
在轉(zhuǎn)換不同倍率的物鏡時(shí)，需要對(duì)光照強(qiáng)度進(jìn)行調(diào)整，以保證不同放大倍數(shù)下視野內(nèi)光照亮度相同。NM900能夠智能記憶不同放大倍數(shù)下的適宜光照強(qiáng)度，跟隨物鏡放大倍數(shù)改變而自動(dòng)調(diào)節(jié)，減少視疲勞。本功能適用于下光源。
模塊化設(shè)計(jì)，可實(shí)現(xiàn)多種觀察方式
NM900顯微鏡采用模塊化設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)明場(chǎng)、暗場(chǎng)、微分干涉、熒光、偏光等觀測(cè)方法。為建筑、材料分析、半導(dǎo)體生產(chǎn)和檢測(cè)等工業(yè)領(lǐng)域提供顯微成像及數(shù)據(jù)分析支持。
